29 июля 2026 года стало известно, что Китай начал производство иммерсионных DUV-литографов для изготовления микросхем. В 2026 году планируется выпуск около 5 машин, а к 2027 году — до 20 единиц. Несмотря на технологическое отставание от голландской компании ASML, это решение направлено на снижение зависимости от западного оборудования, в частности от запрещенных поставок EUV-литографов. В России собственное производство DUV-литографов находится на начальном этапе развития. На развитие российской электроники в 2026–2028 годах выделено около 250 млрд рублей.