Китай приступил к серийному производству установок для иммерсионной литографии, позволяющих выпускать микросхемы по техпроцессу до 7 нм. Согласно данным The Information, первые экземпляры оборудования планируется поставить крупным китайским производителям чипов в 2026 году. Ожидается, что до конца 2026 года будет выпущено около пяти литографов, а в 2027 году объемы производства значительно вырастут — планируется сборка примерно 20 устройств. Данный шаг направлен на снижение зависимости китайской полупроводниковой отрасли от иностранных технологий, особенно в условиях санкций США, введенных с весны 2019 года, которые ограничивают возможности компании ASML по обслуживанию и ремонту оборудования, проданного Китаю.